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黑科技:ORNL通過電子束沉積技術3D打印出納米結構
發布日期:2017/1/18 8:40:07 關注:

南極熊2017年1月12日訊,美國橡樹嶺國家實驗室(ORNL)向來以研究大尺寸3D打印著稱,不過最近,他們卻將目光轉向了與之對立的微觀領域,而且取得了不錯的進展,成功3D打印出了一個比細菌還小的納米級微觀晶格結構。目前,相關的論文已經被發表到了ACS NANO雜志。


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據南極熊了解,這項研究是ORNL與奧地利格拉茨電子顯微鏡中心和田納西大學合作完成的,采用的技術是利用聚焦電子束誘導沉積技術(FEBID)。該技術是一種直寫式制造方法,能通過精確控制電子束構建出3D實體。這個過程會涉及計算機輔助3D模擬和3D設計(CAD),而其中,模擬的作用是幫助預測移動電子束所需的角度。

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值得一提的是在此之前,維也納科技大學也嘗試過用FEBID技術研究微觀3D打印。通過在打印過程中加入氧化劑,他們成功制造出了更純凈的金納米結構,其電阻率僅有8.8微歐姆/厘米,已十分接近純金的電阻率(2.4微歐姆/厘米)。

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ORNL的這項研究的解釋了2D仿真方法不足以創建3D結構的原因,同時證明了3D仿真對于FEBID是十分必要的,還證實了通過使用更強大的計算機,這種微觀3D打印方法的速度可以大幅提高,盡管所需的計算非常復雜,有時甚至需要慢速模擬。


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